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Fraun­ho­fer Insti­tut für Pho­to­ni­sche Mikro­sys­teme

Das Fraun­ho­fer-Insti­tut für Pho­to­ni­sche Mikro­sys­teme ist eines von 67 Insti­tu­ten der Fraun­ho­fer-Gesell­schaft, einer der füh­ren­den Orga­ni­sa­tio­nen für ange­wandte For­schung in Europa.

Mas­ter-/Diplom­ar­beit zum Thema: "Unter­su­chung des Ein­flus­ses von Struk­tur- und Pro­zess­pa­ra­me­tern auf Schicht­di­cke und Uni­for­mi­tät beim CMP-Pro­zess" (IPMS-2018-148)

Auf­ga­ben­be­sch­rei­bung:

Die Fer­ti­gung aktu­el­ler Inte­grier­ter Schalt­kreise, also „Chips“ wie sie in Smart­pho­nes, Lap­tops, Kon­so­len, Fern­se­her, Kame­ras, aber zuneh­mend auch in Autos oder Kühl­schrän­ken ein­ge­setzt wer­den, erfolgt im Prin­zip lagen­weise in hun­der­ten von Pro­zess­schrit­ten auf einer Wafe­r­ober­flä­che. Aktu­elle Chips bestehen aus einer hohen Viel­falt an Bau­ele­men­ten und ermög­li­chen damit kom­plexe Funk­tio­na­li­tä­ten. Die­ser Kom­ple­xi­täts­grad einer­seits und die Win­zig­keit der ein­zel­nen Bau­ele­mente auf der ande­ren Seite erfor­dern ein hohes Maß an Genau­ig­keit, ins­be­son­dere auch eine glatte - pla­nare - Ober­flä­che für die Struk­tur­er­zeu­gung.

Das Che­misch-Mecha­ni­sche Pla­na­ri­sie­ren (CMP) stellt den Stand der Tech­nik für das Pla­na­ri­sie­ren da. Kein ande­res Ver­fah­ren ver­mag so glatte Ober­flä­chen zu erzeu­gen. Beim Inter-Layer Dielectric (ILD) CMP wird die Ober­flä­che des Dielek­tri­kum, das die Bau­ele­mente der Inte­grier­ten Schalt­kreise elek­trisch von­ein­an­der trennt, pla­na­ri­siert. So kön­nen im Fol­gen­den die Anschlüsse der Bau­ele­mente und deren Ver­drah­tung unter­ein­an­der her­ge­stellt wer­den. Die Genau­ig­keits­an­for­de­rung für die ver­blei­bende Dicke bzw. Höhe des ILD liegt im nm-Bereich – und das über die gesam­ten Wafe­r­ober­flä­che (d=300 mm).

In der vor­lie­gen­den Mas­ter-/Diplom­ar­beit sol­len wesent­li­che Ein­fluss­pa­ra­me­ter der Pro­dukte selbst und damit ver­bun­dene Pro­zess­be­din­gun­gen auf die Ziel­pa­ra­me­ter - Schicht­di­cke und Uni­for­mi­tät - sys­te­ma­tisch unter­sucht wer­den.

Die Auf­ga­ben­stel­lung beinhal­tet fol­gende Aspekte:

  • Unter­su­chung der Ein­fluss­pa­ra­me­ter Struk­tur­dichte, Pitch, ILD-Abschei­de­di­cke, Polier­zeit, Pla­ten­ge­schwin­dig­keit (nomi­nell, Radius) auf das Mess­ergeb­nis, Schicht­di­cke/-höhe für ver­schie­dene Posi­tio­nen auf dem Wafer
  • Erstel­len eines Modells für das Ver­hal­ten ver­schie­de­ner Mess­stel­len und Prü­fung auf Kor­re­la­tion mit Topo­gra­phief­ak­to­ren über Polier­zeit­ver­glei­che
  • Iden­ti­fi­zie­rung von robus­ten Mess­stel­len zur Ver­bes­se­rung der Reg­ler­sta­bi­li­tät
  • Eva­lu­ie­rung der Nutz­bar­keit von Mess­stel­len zur Pla­na­ri­täts­kon­trolle
  • Dis­kus­sion der Ergeb­nisse hin­sicht­lich Nutz­bar­keit für die Ent­wick­lung eines „1st Wafer Con­trol­lers“

Er­war­te­te Qua­li­fi­ka­tio­nen:

  • Sie absol­vie­ren ein natur­wis­sen­schaft­li­ches oder inge­nieur­tech­ni­sches Stu­dium (Phy­sik, Che­mie, Mate­ri­al­wis­sen­schaf­ten, Elek­tro­tech­nik, Mathe­ma­tik, Ver­fah­rens­tech­nik oder ver­gleich­bar)
  • Inter­esse für Halb­lei­ter­tech­nik
  • Fähig­kei­ten im Bereich Model­lie­rung und Kor­re­la­tion
  • Tech­ni­sches Ver­ständ­nis und Freude am expe­ri­men­tel­len Arbei­ten
  • Hohes Enga­ge­ment und eigen­ver­ant­wort­li­ches Arbei­ten in einem inter­na­tio­na­len Team
  • Gute Sprach­kennt­nisse in Deutsch und Eng­lisch
  • Team­fä­hig­keit und Kom­mu­ni­ka­ti­ons­be­reit­schaft

Un­ser An­ge­bot:

Wir bie­ten Ihnen ein span­nen­des Thema und indi­vi­du­elle Betreu­ung bei der Erstel­lung Ihrer Mas­ter-/Diplom­ar­beit durch erfah­rene Mit­ar­bei­tende. Auf Sie war­tet ein moti­vier­tes und dyna­mi­sches Team in einer sehr gut aus­ge­stat­te­ten For­schungs- und Ent­wick­lungs­land­schaft. Zudem bie­ten wir Ihnen Anknüp­fungs­punkte im Rah­men Ihres Stu­di­ums oder Ihres Berufs­ein­stiegs, z.B. eine Tätig­keit als wis­sen­schaft­li­che Hilfs­kraft, eine anschlie­ßende Pro­mo­tion oder der Beginn Ihrer wis­sen­schaft­li­chen Kar­riere als Nach­wuchs­wis­sen­schaft­le­rin bzw. Nach­wuchs­wis­sen­schaft­ler am Fraun­ho­fer IPMS. Wir unter­stüt­zen Sie dabei!

Haben Sie Lust ganz vorn dabei zu sein, wenn die Zukunft ent­steht? Herz­lich Will­kom­men am Fraun­ho­fer IPMS!

Seien Sie dabei, wenn die Zukunft ent­steht und nut­zen Sie die Chance zur Erstel­lung einer

Die Durch­füh­rung der wis­sen­schaft­li­chen Arbeit ist im Geschäfts­feld Cen­ter Nano­elec­tro­nic Tech­no­lo­gies (CNT) am Fraun­ho­fer IPMS in Dres­den in Voll­zeit vor­ge­se­hen. Die Prü­fungs­leis­tung erfolgt über die Anbin­dung an eine deut­sche Fach­hoch­schule/Uni­ver­si­tät und rich­tet sich nach dem jewei­li­gen Lan­des­hoch­schul­ge­setz.

Die Stelle ist zum nächst­mög­li­chen Zeit­punkt zu beset­zen.